Marca de fábrica:
TOB NEW ENERGYArtículo No.:
TOB-JYZY-350-4.5orden (moq):
1setPago:
L/C,T/Torigen del producto:
ChinaPuerto de embarque:
XIAMENMáquina de recubrimiento de electrodos de batería de modo dual (ranurado y transferencia) para I+D de baterías y línea piloto.
¿Qué es una máquina de recubrimiento de modo dual?
La mayoría de las líneas piloto y laboratorios de I+D se enfrentan a un problema recurrente: la suspensión que recubrió perfectamente el cabezal de la boquilla la semana pasada no se estabiliza esta semana porque la formulación cambió, el contenido de sólidos varió o la viscosidad del lote quedó fuera del rango óptimo de la boquilla. O bien se lucha contra el menisco todo el día o se cambia a otra máquina.
El TOB-JYZY-350-4.5 resuelve este problema al alojar dos métodos de recubrimiento distintos en un solo chasis:
• Recubrimiento de troquel de ranura: Dosificación de precisión mediante bomba de cavidad progresiva servoaccionada. Ideal para cátodos de NMC, LCO o LFP de viscosidad baja a media basados en NMP, donde la variación de peso debe mantenerse por debajo de ±1,5 %.
• Recubrimiento por transferencia de coma de 3 rodillos: GRAMO Dosificación controlada por AP mediante barra de coma rectificada con precisión. Ideal para ánodos acuosos de grafito o Si-C de alta viscosidad donde la estabilidad de las perlas de extrusión por ranura se ve comprometida.
El cambio entre ambos sistemas se realiza mecánicamente. Sin complicaciones de software. El cabezal de la matriz de ranura se retrae, el conjunto del rodillo de transferencia se bloquea y se ajusta la separación de la barra de coma con cabezales micrométricos. El cambio se realiza en menos de 90 minutos con un operario capacitado.
Recubrimiento por ranura vs. recubrimiento por transferencia: ¿Cuándo usar cuál?
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Método de recubrimiento |
Rango de viscosidad ideal |
Lo mejor para |
Defecto típico si se usa incorrectamente |
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Troquel de ranura (extrusión) |
2.000 – 8.000 mPas |
Cátodos de NMC, LCO, LFP (disolvente NMP) |
Rotura de menisco, arrastre de aire, costillas |
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Transferencia de comas (3 rollos) |
6.000 – 12.000+ mPas |
Ánodos de grafito, ánodos de Si-C, suspensiones acuosas |
Acumulación en los bordes, variación de espesor si no se compensa el hueco. |
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Modo dual (esta máquina) |
Rango completo de 2000 a 12 000 mPas |
Cualquier prueba de formulación o lote piloto |
N/A — elige la herramienta adecuada para el lodo |
Resumen de valores clave (para responsables de compras e ingeniería)
• Una sola partida de equipo de capital cubre dos tecnologías de recubrimiento. No es necesario presupuestar máquinas de recubrimiento por extrusión de ranura y por transferencia de coma por separado.
• Alineación intermitente del patrón con una precisión de ±1,0 mm de longitud y ±0,5 mm de ancho. El seguimiento de bordes mediante fotosensor alinea automáticamente los patrones de la cara frontal y posterior. No requiere ajustes manuales durante el recubrimiento por ambas caras.
• Rodillo de recubrimiento cromado duro y cuchilla de precisión rectificada. Ambos cumplen con una desviación radial y rectitud de ≤ ±1,5 µm. Esta es la base mecánica para la especificación de precisión de recubrimiento de ±3 µm.
• Secado independiente de 3 zonas con calentamiento SCR analógico. Longitud total del horno: 4,5 metros. Las boquillas de impacto de aire superior e inferior evitan la formación de costras en la superficie de los electrodos gruesos.
• Diseñado para salas de cátodos con baja humedad. Área del cabezal de recubrimiento especificada para ≤35% HR. Rodillos anodizados, herrajes sellados contra la filtración de vapor de NMP.
Contexto del caso: Línea piloto para cátodo NMC811 de alta densidad energética (disolvente NMP) y ánodo de grafito acuoso sobre lámina de Cu de 10 µm.
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Parámetro |
Dado ranurado ( NMC811) |
Transferencia (ánodo de grafito) |
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Viscosidad de la suspensión |
~4500 mPas |
~9.800 mPas |
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Contenido sólido |
68% |
52% |
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Velocidad de recubrimiento |
2,8 m/min |
1,8 m/min |
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Espesor seco objetivo |
85 µm (una sola cara) |
120 µm (una sola cara) |
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Variación del peso del recubrimiento (medida) |
±1,3% |
±1,4% |
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Tasa de defectos en los bordes |
<2% del área total recubierta |
<3% del área total recubierta |
Datos recopilados en las instalaciones del cliente TOB (planta piloto en el sudeste asiático) durante la puesta en marcha de una unidad TOB-JYZY-350-4.5. Sustrato: lámina de Al de 12 µm para el cátodo y lámina de Cu de 10 µm para el ánodo. Mediciones realizadas según el protocolo interno de control de calidad de TOB durante un recubrimiento continuo de 500 metros.
Aplicaciones
• Producción a escala piloto de baterías de iones de litio: cátodos de NMC, LFP, LCO y LMO; ánodos de grafito y Si-C.
• Desarrollo de baterías de iones de sodio: suspensiones de cátodo de iones de sodio de hasta 12.000 mPas.
• Ensayos de recubrimiento con electrolitos de estado sólido: suspensiones con alto contenido de sólidos (20-85%) con NMP o agua.
• Recubrimiento de electrodos para supercondensadores: Precisión de película delgada sobre sustratos de aluminio.
• Investigación y desarrollo de películas funcionales: Cualquier aplicación que requiera la deposición precisa de películas húmedas sobre láminas metálicas flexibles.
Especificaciones técnicas
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No. |
Artículo |
Parámetro |
Observaciones |
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1 |
Química compatible |
LFP, NMC, LCO, LMO, grafito, Si-C, iones de sodio, etc. |
Cátodo y ánodo |
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2 |
Método de recubrimiento |
Continuo e intermitente |
Dados de tragamonedas + Combo de transferencia |
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3 |
Velocidad de recubrimiento |
1,5 ~ 3,0 m/min |
Depende del perfil de secado |
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4 |
Patrón intermitente |
Revestimiento
Longitud: 10~5000 mm
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5 |
Alineación de doble cara |
Seguimiento automático de bordes mediante fotosensor |
Registro del reverso |
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6 |
Espesor del sustrato |
Lámina de aluminio: 8~30 µm
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7 |
Ancho de la cara del rodillo |
400 mm |
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8 |
Ancho de recubrimiento garantizado |
≤ 350 mm |
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9 |
Rodillo de recubrimiento / Rodillo de caucho |
Φ120 mm |
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10 |
Rodillo dosificador (Doctor) |
Φ100 mm |
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11 |
Precisión del recubrimiento |
±3 µm |
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12 |
Variación del peso del recubrimiento |
≤ ±1,5% |
Excluyendo el margen del borde, sustrato incluido |
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13 |
Rango de viscosidad de la suspensión |
2000 ~ 12000 mPas |
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14 |
Espesor del recubrimiento seco |
20 ~ 200 µm |
Una sola cara |
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15 |
Compatibilidad con disolventes |
NMP (densidad 1,033, punto de ebullición 204 °C)
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16 |
Gama de contenido sólido |
20 ~ 85% |
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17 |
Precisión dimensional |
Longitud: ≤ ±1,0 mm
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18 |
Alineación delantera-trasera |
Longitud: ≤ ±1,0 mm
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19 |
Desviación de la guía web |
±0,3 mm |
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20 |
Disposición de la máquina |
Desenrollar cabezal, horno, rebobinar |
Modular / Tipo dividido |
Preguntas frecuentes
P1: ¿Cuánto tiempo se tarda realmente en cambiar entre el modo de transferencia de dados ranurados y el modo de transferencia de comas?
A: Con un operario experimentado, el cambio mecánico tarda aproximadamente entre 45 y 90 minutos. Esto incluye retraer el cabezal de la matriz de ranura, bloquear el conjunto del rodillo de transferencia y ajustar la separación de la cuchilla de coma mediante los cabezales micrométricos. El cambio de la receta del PLC para los parámetros de tensión y velocidad es inmediato. El factor limitante es la limpieza del borde de la matriz de ranura si se ha estado utilizando una suspensión a base de NMP; ese es el verdadero lastre de tiempo, no el cambio de hardware.
P2: La especificación indica una precisión de recubrimiento de ±3 µm. ¿Es posible lograr esa precisión en una lámina de aluminio de 8 µm sin que se arrugue?
R: Sí, siempre que el perfil de tensión de desenrollado esté ajustado correctamente. Las variables críticas son el bucle de retroalimentación del rodillo tensor y la dureza del rodillo de soporte de goma. En láminas de Al de 8 µm, se aplica una presión de contacto menor en el rodillo EPDM y se mantiene la tensión de desenrollado en el extremo inferior del rango (normalmente de 5 a 8 N). El arrugamiento suele deberse a un rodillo guía desalineado o a un cojinete tensor sucio, no a la geometría del cabezal de recubrimiento. La máquina mantiene una tolerancia de ±3 µm en láminas de hasta 8 µm si el sustrato tiene un calibre uniforme.
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